同花顺300033）金融研究中心9月12日讯，有投资者向天准科技发问， 公司之前提到过已有光刻对准查验机产品并中标过上海新微半导体收购项目，请问光刻对准查验机载半导体光刻各流程环节中起啥作业？国产代替远景怎么？谢谢
公司答复表明，您好，感谢对公司的重视。MueTec于2021年中标上海新微套刻差错量测设备。套刻（Overlay）差错量测设备大多数都用在量测半导体制作工艺中前后叠层之间对准的套刻差错，MueTec的套刻（Overlay）差错量测设备可掩盖65-90nm工艺节点，现在公司姑苏团队和MueTec团队正在合作开发更先进制程的套刻差错量测设备。
