要说我们的祖国的研制能力，虽说起步比较晚，不过追赶的速度一直很快。比如说在五六十年前我们大家都知道只要落后就会挨打，于是研制出了。充分可见我们的研发速度一直很快，也有这个研发的实力。可是到了现在，又一个“科技落后”的情况下，我们却迟迟研发不出光刻机技术，这到底是怎么回事呢？小编认为有2个原因，一起看看吧。
的制造工艺，只需要有原料以及清楚必备的条件和相关的物理参数等等，就可以制造出来。最重要的是，当时我们有参照物，所以在先辈们的努力之下，可以研制出来。不过光刻机并不相同，原理虽说也很简单，只要在金属的表明上进行一层光刻胶的覆盖，用固定的形状将光线照进去进行光刻胶的溶解，就可以自动形成芯片所需的电路。不过，问题是我们连一个参照物都没有，完全就是瞎抹黑
，所以研制了这么久的时间，我们还停留在14nm的量产技术上，和他国拉开了很大的差距。
。那个时候，“落后要挨打”可是实实在在的挨打，是更多的人会失去生命，失去家庭的挨打。所以他们只有一条路，那就是加快速度研制出新的武器，只有这样才能够保证更多的人活下去。说白了就是已经刀尖到了胸口的压力，不管这个事情到最后能不能，都必须要能。可光刻机的技术现在的背景又不一样了，虽说各大企业都知道，如果我们没自己的核心技术，那么我们将在科技上被其他几个国家“霸凌”。现在的华为被美方压着打就是很好的例子。可就算如此，刀尖还没有到自己的身上，这压力总归没这么大，所以研制的速度相对慢了一点。
还因为研发之路的“顺利”不同，之前在研制的时候，相对来说，比较顺利，这个顺利指的是当时没有人阻拦。可光刻机就不一样了，我们很早之前就给荷兰的SAML提出了卖光刻机回来，但在美国的控制下，这些光刻机到现在都还没到我们手上。也就是说，我们还没开始起步，就已经被打压的爬不起来了
，甚至，就算是买回了光刻机，可能我们在其他的相关供应链上也会受到打压。总而言之就是因为光刻机的制造供应链太多，每一个关卡都在死死地卡住我们，所以我们从始至终技术上没有多大的提升。
总结：以上就是两者之间真正的区别。不过编编相信，在我们的祖国不断的努力之下，我们也能重新创造曾经的奇迹，打破光刻机的这个难关。当然了，这个路途很遥远，也还需要很多新的技术人才去努力。只希望，在今后国家能够更为的注重培养创造新兴事物的能力的人才，让我们的步伐加快一步。对此，你们怎么看？
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