核算光刻作为现代芯片制作光刻环节的核心技能之一，其开展阅历了从规矩导向到模型驱动的改变。但是，跟着制程迈向7nm甚至5nm节点，传统办法因规矩限制、优化自由度缺乏等限制，难以满意杂乱芯片规划的高要求。在此布景下，反向光刻技能(ILT)以其共同的优化思路应运而生。
ILT即从方针芯片图画动身，逆向推导取得*优化掩模图画，极大地提高优化的灵活性和精准度，更能满意先进制程对图形精度的严苛需求。因而，在探究7nm及以下制程的征途中，ILT技能无疑将是提高制作良率的关键技能。尤其在顶级光刻设备受限的国内环境下，其重要性更是显而易见。
ILT并非一种新式技能，但其存在比如核算量大功率低，掩模杂乱度高难于制作等技能难点，长期以来没有得到遍及使用。作为探究ILT技能的前驱之一，东方晶源ILT选用GPU集群高性能核算处理方案，处理了核算量大的难题，首先完成了全芯片级其他根据ILT技能的掩模优化。面临7/5nm等先进制程的火急需求，近期东方晶源ILT处理方案又成功霸占很多技能难题，包含优化收敛性、成果一致性、人工智能加快、掩模杂乱度重整化等，现在正在国内各大Fab厂商赶紧验证。
改造后的东方晶源ILT处理方案其主要特征及优势体现在以下几个方面：
首创的混合掩模优化办法，显着下降核算杂乱度，提高全体核算功率，特别是在优化辅佐曝光信号的一起考虑三维掩模效应，供给更为精准的掩模成果。
引进人工智能技能进一步处理ILT所需运算时间长的坏处，其深度学习模型猜测成果与ILT核算成果类似度高达95%，一起取得近十倍的提速。
东方晶源自2014年建立以来，在核算光刻范畴继续立异，构建了全面且*的技能系统，旗下核算光刻渠道PanGen®已构成八大产品矩阵，包含Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC，具有完好的核算光刻相关EDA东西链条，并已在国内各大Fab厂商大范围的使用，量产掩模超6000张。跟着ILT处理方案的不断改造，其在功率和性能上的优势愈加突显，必将在先进制程研制和使用中发挥及其重要的效果，在提高良率、下降出产所带来的本钱方面展现出共同的价值。展望未来，东方晶源将继续坚持技能立异，供给杰出的处理方案，为我国半导体工业的开展和前进奉献才智和力气。
