光刻机，作为半导体工业中的关键设备，其重要性不言而喻。它大多数都用在制造芯片中的微小结构，通过将掩模上的图形投影到硅片上，并使用紫外线照射硅片表面，使其形成微小的结构。这一技术不仅决定了芯片的制造精度，还直接影响到整个半导体产业的发展。
光刻机的工作原理最重要的包含曝光和显影两个过程。在曝光过程中，硅片被放置在平台上，通过自动对位系统来进行定位和对位，然后加热处理，使硅片表面更容易吸收光线。接着，涂覆光刻胶，并通过光学系统将掩模上的图形投影到硅片上，使用紫外线进行照射。显影过程则是通过化学反应将硅片表面的光刻胶进行溶解，形成微小的结构，最后进行清理洗涤，准备下一次曝光。
近年来，随着科学技术的快速的提升，光刻机在3D切割加工领域也展现出了巨大的应用潜力。光刻机不但可以用于设计平面与复杂3D结构等工件，还能实现计算机成像，具有精度高、成本低、特异性强、功能齐全等特点。这使得光刻机在多层数据扫描、数字机械加工、3D扫描、建模与测试等多个领域得到了广泛应用。
然而，光刻机市场长期被国外巨头垄断，如荷兰的ASML、日本的佳能和尼康等。ASML在高端光刻机领域处于绝对领头羊，特别是在EUV（极紫外光）光刻机方面，市场占有率高达100%。全球光刻机市场中，国产化率仅2.5%，国产光刻机的发展空间巨大。
二、在政策利好和国产替代的大背景下，光刻机概念股在A股市场迎来了集体狂欢。
光刻机相关概念股在长期资金市场具有较大的投资价值。然而，投资者也必须要格外注意光刻机市场之间的竞争激烈、技术更新换代迅速等风险。因此，在选择投资标的时，应着重关注公司的技术实力、市场地位、业绩增长潜力以及政策支持等因素。如何操作如何布局的方法，上弓种號：未来说市，跟上步伐保持理性投资的心态，避免盲目跟风炒作。返回搜狐，查看更加多
