6月17日早间音讯，台积电在今天举行的2022技能论坛上，首度推出下一代先进制程N2，也便是2nm。技能指标方面，台积电发表，N2相较于N3，在相同功耗下，速度块10~15%；相同速度下，功耗下降25~30%，敞开高效能新纪元。
就纵向比照来看，2nm之于3nm的提高，好像不如3nm之于5nm，包含但不限于功能、功耗、密度等一切中心参数。
在微观结构上，N2选用纳米片电晶体（Nanosheet），替代FinFET（鳍式场效应晶体管），外界共同以为，纳米片电晶体便是台积电版的GAAFET（盘绕栅极晶体管）。
台积电还表明，N2不只有面向移动处理器的规范工艺，还会有针对高功能运算和小芯片（Chiplet）的整合计划。
别的，依据台积电最新技能道路nm也会比较长命，后续还有N3E、N3P和N3X。
关键字：引证地址：台积电发布2nm先进制程：完结FinFET晶体管 功耗下降30%
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